日本氟氧化钇 日本氧化钇
作为半导体制造设备内部的保护性涂层,半导体乾蚀设备内部暴於高反应性卤素或氧系电浆。若非耐电浆材料元件(如,石英玻璃、氧化铝和阳极化的铝)以原本状态使用,则会发生表面腐蚀而伴随着生成粒子,其造成半导体上之微观电路的缺陷。因此,於半导体制造设备之待外露的表面提供用以赋予抵御电浆的耐蚀性和保护设备之元件的保护性涂层。此保护性涂层之一是对於种类繁多的电浆展现耐蚀性的氟氧化钇。
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